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Etude des Propriétés Morphologiques, Electriques et Chimiques de l’Interface Métal/Isolant et de leur Impact sur les Performances de la Capacité TiN/Ta2O5/TiN
Nicolas Gaillard
figure
sortie
capacité
ta2o5
l’interface
kfm
surface
métal
couche
sio2
propriétés
électrique
isolant
interfaces
potentiel
couches
électriques
fuite
diélectrique
topographie
兲
mocvd
films
rugosité
pvd
capacités
chimique
grains
courants
tension
pointe
matériau
impact
phys
inférieure
bande
rôle
ff.µm
l’électrode
technique
grain
mesures
mev
techniques
barrière
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