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Μικροηλεκτρονική – VLSI Ψηφιακά ολοκληρωμένα κυκλώματα CMOS
ΤΕΙ Λαμίας
A. Καναπίτσας
τρανζίστορ
πύλης
πυριτίου
wafer
διαδικασία
σχήμα
τάση
κυκλώματα
κυκλωμάτων
photoresist
cmos
πύλη
υπόστρωμα
resist
oxide
εγχάραξης
nmos
προσμίξεων
χρησιμοποιείται
τύπου
περιοχή
επιφάνεια
διάχυσης
ολοκληρωμένων
substrate
ιόντων
vdd
οξειδίου
pmos
πηγή
υλικό
transistor
silicon
κατασκευή
πυρίτιο
πηγής
μπορούν
ολοκληρωμένα
σύστημα
plasma
χρήση
εγχάραξη
συνήθως
υποστρώματος
εισόδων
χρησιμοποιούνται
αποτέλεσμα
εξαρτάται
εξόδου
sputtering
Année:
2007
Langue:
greek
Fichier:
PDF, 12.76 MB
Vos balises:
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greek, 2007
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